プラズマ洗浄を工程に組み込め、大容量の各種基板への対応が簡単!

【誕生秘話】
短時間で大量の基板をプラズマ洗浄...。
多列型のプラズマ洗浄機はありますが、様々な基板寸法に対応には、チャンバー交換といった大掛かりな改造を要するものが多いのではないでしょうか。
弊社では、簡単な作業で各種基板に対応可能なモデルを御提案出来ないか?との思いから、本製品の御紹介をする事となりました。






【VSP-88D Proとは】
前工程や後工程でワークのパターンの鮮明度の低下やピンホールといった不具合が起こることがあります。原因は、水や溶剤等の湿式洗浄では除去しきれない油脂や溶剤の残りといった目に見えない有機性汚れがワークに付着、インクや接着剤とワークとの密着が妨げられる事が考えられます。プラズマ洗浄は、有機性汚れを1nm以下の単分子層になるまで洗浄する事により、ワークの清浄度を高める事で表面の濡れ性を向上させ、インクや接着剤の載りを良くする事でワークの不具合を少なくします。

プラズマ洗浄前とプラズマ洗浄後の濡れ性の比較

Vision Semicon Plazma, contact angle test1.JPG
接触角、清浄度、濡れ性の相関

What the Contact Angle is.JPG


弊社では多様化する基板に対応、大量の洗浄を可能とするだけでなく、基板搭載後の空マガジンを洗浄後のワーク積載に使用、自動積載する事でマガジン投入・取出しに掛かる手間を大幅に削減しました。

左:各種基板用チャンバー 右:ウェハー用チャンバー

VSP-88Lmagazine for various works&wafers.JPG

【製品の特徴】
・上下2段にチャンバーを搭載した事により、多量の基板を短時間に処理する事が可能。
・固定用ボルトのみで、基板寸法に合わせたコンベヤ間ピッチとチャンバー内ガイドレールピッチを調整が可能。
・基板投入後の空マガジンを洗浄後のワーク積載に使用、自動積載する事でマガジンの循環使用と連続洗浄が可能。
・チャンバー上部に矯正ピンを取付ける事でパッケージ基板に生じる変形を矯正、チャンバーへの接触を防ぎ、洗浄後のチャンバーへの焼き付きを抑える。


【おわりに】
マガジンを循環使用する事での連続洗浄が可能となり、生産工程への投入と時間短縮が可能となります。また、基板寸法に合わせた調整が可能となり、各基板に合わせた寸法対応が可能となります。その為、時間短縮と多用途化を目的とした、お客様への展開を考えております。
現在は基板のみの対応となりますが、ウエハーへの対応が可能なものも開発中です。

新着情報!
1台2役! ウエハー(~12inch)、各種基板にも対応する卓上型プラズマ洗浄機
リリース決定致しました。こちらのページも併せてご覧下さい。

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